Grupo de Investigación: Microelectrónica

Introducción.

Es el Grupo más antiguo de la Coordinación y cuenta con El Laboratorio de Microelectrónica, el cual es el centro de actividades fundamental de este grupo. Este laboratorio cuenta con las facilidades y equipos necesarios para la fabricación de circuitos integrados y dispositivos semiconductores a partir de obleas de silicio. A la fecha se cuenta con un proceso de fabricación de circuitos integrados con la tecnología CMOS.

Actualmente, el Grupo de Microelectrónica se ha dado a la tarea de establecer el Laboratorio Nacional de Nanoelectrónica (LNN), el cual consiste de dos fases: la primera  (actualmente en instalación y puesta a punto) orientada a realizar investigación, desarrollo tecnológico y generación de prototipos de dispositivos nanoelectrónicos, y la segunda etapa (actualmente en construcción del edificio) se orientará a la producción de este tipo de dispositivos y sistemas.

Investigadores del Grupo.

El Grupo de Microelectrónica cuenta actualmente con 16 investigadores

Aceves Mijares, Mariano

Calleja Arriaga, Wilfrido

De la Hidalga Wade, Francisco Javier

Gutiérrez Domínguez, Edmundo

Halevi Sar, Peter

Kosarev, Andrey

Linares Aranda, Mónico

Malik, Oleksandr

Molina Reyes, Joel

Moreno Moreno, Mario

Murphy Arteaga, Roberto Stack

Reyes Betanzo, Claudia

Rosales Quintero, Pedro

Torres Jacome, Alfonso

Zúñiga Islas, Carlos

Zurita Sánchez, Jorge Roberto

 

Con cierta regularidad, el Grupo tiene investigadores en estancias cortas. Actualmente los investigadores en este tipo de estancia son:

 

Líneas de Investigación del Grupo.

El Grupo de Microelectrónica es un grupo altamente consolidado en varias líneas de investigación y que al mismo tiempo incursiona en líneas emergentes del campo.  A continuación, se listan y describen brevemente algunas de las líneas de investigación del grupo:

Fabricación y Caracterización de Sensores con Base en el Silicio. Los dispositivos son diseñados para ser compatibles con el proceso de fabricación de circuitos integrados CMOS; la tendencia es a desarrollar una tecnología nacional de fabricación de sistemas integrados.

Materiales Nanoestructurados. La incorporación de materiales nanoestructurados compatibles con la tecnología del silicio es la otra línea de investigación; esta actividad es de gran impacto y actualidad; para la obtención de estos nuevos materiales se usa un método de depósito químico en la fase de vapor, asistido por plasma a bajas frecuencias.

MEMS. Se realizan diseños de este tipo de dispositivos para diversas aplicaciones. Se cuenta con un Laboratorio de Innovación en MEMS donde se llevan a cabo tareas de diseño asistido por computadora para su posterior fabricación.

Crioelectrónica. Se realiza investigación sobre los efectos que la baja temperatura tiene sobre los mecanismos de conducción de dispositivos semiconductores, tendientes a la mejora de los modelos existentes.

Dispositivos optoelectrónicos. La caracterización de las propiedades ópticas de los materiales y dispositivos semiconductores compatibles con la tecnología de silicio se realiza para su integración  al proceso de fabricación CMOS.  Con la finalidad de  desarrollar óptica integrada y sistemas optoelectrónicos.

 


Última modificación :
09-06-2015 a las 10:24 por Laura Toxqui Olmos

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