Electrónica

 

Línea de Investigación: Microelectrónica

Introducción

Es la Línea más antigua de la Coordinación y cuenta con El Laboratorio de Microelectrónica, el cual es el centro de actividades fundamental de este grupo. Este laboratorio cuenta con las facilidades y equipos necesarios para la fabricación de circuitos integrados y dispositivos semiconductores a partir de obleas de silicio. A la fecha se cuenta con un proceso de fabricación de circuitos integrados con la tecnología CMOS.

En 2010 fue inaugurado el Laboratorio de Innovación MEMS (LIMEMS), laboratorio dedicado a la fabricación de prototipos de Sistemas Micro-Electro-Mecánicos (MEMS). Una característica que distingue a este laboratorio, es el uso de materiales nanoestructurados compatibles con la tecnología CMOS en la fabricación de sensores y dispositivos Micro-Electro-Mecánicos. El LIMEMS completa la infraestructura de fabricación y de investigación de este grupo.

 

Investigadores de la Línea

La Línea de Microelectrónica cuenta actualmente con 16 investigadores

Aceves Mijares, Mariano

Calleja Arriaga, Wilfrido

Durini Romero, Daniel

Gutiérrez Domínguez, Edmundo Antonio

Linares Aranda, Mónico

Molina Reyes, Joel

Moreno Moreno, Mario

Murphy Arteaga, Roberto Stack

Reyes Betanzo, Claudia

Rosales Quintero, Pedro

Torres Jacome, Alfonso

Zúñiga Islas, Carlos

Zurita Sánchez, Jorge Roberto

 

Líneas de Investigación

La  Línea de Microelectrónica esta altamente consolidada, en la que se realizan varias líneas de investigación, al mismo tiempo incursiona en áreas emergentes del campo.  A continuación, se listan y describen brevemente algunas de las actividades de investigación de la línea:

Fabricación y Caracterización de Sensores con Base en el Silicio. Los dispositivos son diseñados para ser compatibles con el proceso de fabricación de circuitos integrados CMOS; la tendencia es a desarrollar una tecnología nacional de fabricación de sistemas integrados.

Materiales Nanoestructurados. La incorporación de materiales nanoestructurados compatibles con la tecnología del silicio se ha convertido en una de gran impacto y actualidad. Para la obtención de estos nuevos materiales se usa un método de depósito químico en la fase de vapor, asistido por plasma a bajas frecuencias.

MEMS. Se realizan diseños de este tipo de dispositivos para diversas aplicaciones. Se cuenta con un Centro de Diseño de MEMS donde se llevan a cabo tareas de diseño asistido por computadora para su posterior fabricación.

Crioelectrónica. Se realiza investigación sobre los efectos que la baja temperatura tiene sobre los mecanismos de conducción de dispositivos semiconductores, tendientes a la mejora de los modelos existentes.

Dispositivos optoelectrónicos. La caracterización de las propiedades ópticas de los materiales y dispositivos semiconductores compatibles con la tecnología de silicio se realiza para su integración  al proceso de fabricación CMOS.  Un objetivo de esta área en particular es el desarrollar óptica integrada y sistemas optoelectrónicos monolíticos en la tecnología del silicio.

 

 

Última actualización:
18-10-2021 / 13:24 por: Valeria Rodríguez

 

Dirección: Luis Enrique Erro # 1, Tonantzintla, Puebla, México C.P. 72840 Teléfono: (222) 266.31.00 Contacto: difusion@inaoep.mx


Esta obra está licenciada bajo una Licencia Creative Commons Atribución-No Comercial-Sin Obras Derivadas 2.5 México

Creative Commons License